一、核心配置選擇
X射線源
功率與靶材：普通實驗室可選3kW金屬陶瓷X光管（如Cu靶），滿足常規物相分析需求；高功率場景（如催化劑研究）需配置9kW轉靶或液態金屬靶（如布魯克D8VENTURE的METALJET），可提升信噪比并縮短測試時間。
波長選擇：Cr/Fe/Co/Mo靶材適用于特定元素分析，如Mo靶（λ=0.7107Å）適合高分辨率需求，而Cu靶（λ=1.5406Å）為通用選擇。
測角儀
精度與分辨率：高精度測角儀（如±0.001°重復性）是物相定量分析的關鍵，理學SmartLab采用雙光學編碼直接定位技術，可實現1/10000度步進；布魯克D8ADVANCE的θ-2θ聯動立式測角儀則兼顧粉末與薄膜樣品。
掃描范圍：2θ范圍需覆蓋目標衍射角（如-3°至+150°），以適應小角散射（SAXS）或廣角測試需求。
探測器
類型與性能：閃爍計數器適用于常規測試，而線陣探測器（如布魯克LYNXEYEXE）可實現快速掃描（1000°/min）；高靈敏度場景需選擇光子計數探測器（如PHOTONIII），其動態范圍達10?cps，適合弱信號檢測。
光學附件
平行光路：Göbel鏡或CBO交叉光學組件可消除軸向發散，提升分辨率至0.0001°級；
原位附件：溫控范圍覆蓋-190℃至1300℃（如ItalstructuresAPD2000），支持電池充放電、催化反應等動態過程研究。
二、技術路線對比
傳統螺桿-齒輪傳動vs光學編碼定位
傳統機械傳動：通過螺桿-齒輪副實現角度測量，精度可達±0.01°，但長期使用易磨損，需定期校準；
光學編碼定位：采用直接讀取編碼盤信號，重復性提升至±0.001°，且無機械磨損，適合高精度需求。
單色器與濾波片選擇
單色器：Cr/Fe/Co/Mo二次單色器可消除Kβ輻射干擾，提升峰背比，但會降低強度（約30%）；
濾波片：Ni濾波片（針對Cu靶）可簡單過濾Kβ線，成本低但分辨率略遜于單色器。
軟件功能差異
基礎分析：所有設備均支持物相鑒定（如PDF卡片匹配）、結晶度計算；
高級功能：布魯克APEX軟件支持Rietveld精修與結構解析，理學PDXL提供織構分析與應力測定模塊，Italstructures配套軟件則強化了薄膜厚度與粗糙度計算。
三、選型建議
科研機構：優先選擇高功率（≥9kW）、光學編碼定位測角儀及光子計數探測器，如布魯克D8VENTURE或理學SmartLab，以支持前沿研究（如單晶結構解析、原位動態分析）；
工業檢測：可選3kW金屬陶瓷X光管、傳統機械傳動測角儀及閃爍探測器，如普析通用XD-6，兼顧成本與可靠性；
特殊場景：若需條件測試（如超低溫/高溫），需確認設備是否配備原位附件及輻射防護系統（如ItalstructuresAPD2000的雙重安全門禁）。
